- Hid Membrane Co., Ltd.
- 0086-(0)511-81889899
- info@ro-hid.com
Txinako AEBko Dow RO mintz beroenetako bat alderantzizko osmosi sistemarako
Ondo kudeatutako gailuak, irabazi-talde aditua eta salmenta osteko enpresa hobeak; Familia handi eta bateratu bat ere bagara, denok jarraitzen dugu erakundearekin "batasuna, determinazioa, tolerantzia" oinarri hartuta, Txinako eta AEBko Dow RO mintz alderantzizko osmosi sistemarako beroenetako bat baita. Urte askotako lan-esperientziarekin, orain konturatu gara kalitate goreneko produktuak eta salmenta aurreko eta salmenta osteko zerbitzu onenak eskaintzearen garrantziaz.
Gailu ondo kudeatuak, irabazi-talde aditua eta salmenta osteko enpresa hobeak; Familia erraldoi bateratu bat ere bagara, denok jarraitzen dugu "batasuna, determinazioa, tolerantzia" balio duen erakundearekin. Alderantzizko Osmosi Mintza, RO mintza 100gpdSistema operatibo guztiz integratu batekin, gure enpresak ospe ona lortu du gure kalitate handiko salgaiengatik, prezio arrazoizkoengatik eta zerbitzu onengatik. Bitartean, kalitate kudeaketa sistema zorrotza ezarri dugu materialaren sarreran, prozesamenduan eta entregan. "Kreditua lehenik eta bezeroaren nagusitasuna" printzipioari jarraituz, etxeko eta atzerriko bezeroak ongi etorriak dira gurekin lankidetzan aritzeko eta etorkizun bikaina sortzeko elkarrekin aurrera egiteko.
Alderantzizko Osmosi (RO) Mintza 100 GPD
HIDTMResidential Membrane-k Txinako marka onenak sailkatzen ditu RO mintzen industriaren artean.Alderantzizko Osmosi (RO) Mintza 100 GPD 10 urte baino gehiagoz ur araztu fidagarria hornitzeagatik milaka familien konfiantza irabazi du. Mintz bakoitza HID garatutako eta aurrez aztertutako xaflaz egina dago eta fabrikazio prozesu zorrotzak, baita barne kalitate ikuskapena eta probak ere igarotzen dira entregatu aurretik. HID mintza SGS eta Txinako Jiangsu Saneamendu Bulegoak ziurtatu dute edateko uraren mintz elementuei dagokienez.
| Modeloa | TFC-1810-50 | TFC-1810-75 | TFC-1810-100 | TFC-2012-125 | TFC-2012-150 | TFC-2012-200 | |
| TFC-1812-50 | TFC-1812-75 | TFC-2012-100 | |||||
| Errendimendua | Gatzgabetze egonkorra % | 97 | 97 | 97 | 97 | 97 | 97 |
| Gutxieneko gatzgabetze ehunekoa | 96 | 96 | 96 | 96 | 96 | 96 | |
| Batez besteko GPD iragazkortasun-fluxua (L/d) | 50 (204) | 75 (281) | 100 (380) | 125 (478) | 150 (567,75) | 200 (760) | |
| Film aktiboaren azalera ft2 (m2) | 3,5 (0,32) | 4,2 (0,38) | 5.0 (0.46) | 5.0 (0.50) | 6,0 (0,8) | 10,33 (0,96) | |
| Proba Baldintzak | Presioa | 65 psi (0,45 Mpa) | |||||
| Uraren tenperatura. | 25℃ | ||||||
| Kontzentrazioa (NaCl) | 500 ppm | ||||||
| Uraren pH-a | 6,5etik 7,5era | ||||||
| Berreskuratze-tasa ehunekoa | 15 | ||||||
| Funtzionamendu-baldintzak | Gehienezko funtzionamendu-presioa | 200 psi (2.0 Mpa) | |||||
| Elikadura-uraren tenperatura maximoa. | 45℃ | ||||||
| Elikatze-uraren lohi-dentsitatearen indize maximoa (SDI) | 5 | ||||||
| Elikatzeko uraren kloro tolerantzia | |||||||
| Elikatzeko uraren pH tartea, etengabeko funtzionamendua | 3tik 10era | ||||||
| Elikatzeko uraren pH tartea, epe laburreko garbiketa | 2tik 11ra | ||||||
| Mintz bakarreko presio-jaitsiera maximoa | 10 psi (0,07 MPa) | ||||||
OHARRA: Taulan zerrendatutako ekoitzitako ur kantitatea batez besteko balioa da, balio estandarrarekin alderatuta, mintz bakar batek ekoitzitako gutxieneko ur kantitatearen aldea ez da ± % 15 baino handiagoa.
| Modelo zenbakia | Gehienezko Funtzionamendu-tenperatura | Gehienezko Funtzionamendu-presioa | Elikatze-uraren pH-tartea, etengabeko funtzionamendua | Gehienezko Elikadura Uraren uhertasuna | Gehienezko Elikatzeko ura SDI | Kloroa Tolerantzia |
| TFC-1812-50 | 45℃ | 200 psi | 4-11 | 1NTU | 5 | |
| TFC-1812-75 | 45℃ | 200 psi | 4-11 | 1NTU | 5 | |
| TFC-2012-100 | 45℃ | 200 psi | 4-11 | 1NTU | 5 | |
| TFC-2012-125 | 45℃ | 200 psi | 4-11 | 1NTU | 5 | |
| TFC-2012-150 | 45℃ | 200 psi | 4-11 | 1NTU | 5 | |
| TFC-2012-200 | 45℃ | 200 psi | 4-11 | 1NTU | 5 |
HID RO mintzak oso erabiliak dira ur ultrapuruan, prozesuko ur puruan, hozte-dorreetako uretan, galdara-uraren hornikuntzan, ur puruan, elektronika-industrian, optoelektronikan, makineria-fabrikazioan, produktu kimiko finen industrian, medikuntza-farmazian, elikagai eta edarien industrian, gainazalen estalduran eta beste hainbat industriatan.
